中國報告大廳網訊，在半導體行業(yè)的蓬勃發(fā)展下，2022年全球光刻膠市場規(guī)模達到22億美元，同比2021年增漲了7.84%，以下是2023年光刻膠行業(yè)產業(yè)布局。

  光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。光刻膠行業(yè)產業(yè)布局指出，由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

  光刻膠是集成電路制造必不可少的關鍵原材料。2022年我國集成電路產業(yè)首次突破萬億元。光刻膠行業(yè)產業(yè)布局數(shù)據(jù)顯示，2022年我國集成電路產業(yè)銷售額達到10458.3億元，同比增長18.2%。

  光刻膠行業(yè)產業(yè)鏈整理

  我國光刻膠產業(yè)鏈中，上游主要為原材料及設備，包括樹脂、溶劑、單體、光引發(fā)劑、生產設備以及檢測設備等;中游為光刻膠，主要包括PCB光刻膠、面板光刻膠、半導體光刻膠;下游為應用領域，光刻膠廣泛應用于PCB、半導體、面板顯示、芯片等。

  上游分析

  生產光刻膠的原料包括光刻膠樹脂、單體、光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產酸劑)及其他助劑等。數(shù)據(jù)顯示，樹脂占光刻膠總成本的50%，在光刻膠各成分中占比最大，其次單體的占比為35%，光引發(fā)劑及其他助劑占比15%。

  中游分析

  光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，在半導體工業(yè)、PCB、平板顯示等領域廣泛應用。光刻膠行業(yè)產業(yè)布局數(shù)據(jù)顯示，我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2022年84億元，年均復合增長率為12.7%。，預測2023年我國光刻膠市場規(guī)?？蛇_98.6億元。

  下游需求情況

  按下游應用看，面板行業(yè)，主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等;在PCB行業(yè)，主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等;在半導體集成電路制造行業(yè)，主要使用G/I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。

  目前，國內半導體光刻膠廠商毛利率較高。南大光電、晶瑞電材和上海新陽光刻膠相關毛利率維持在40%以上，彤程新材光刻膠相關毛利率也在20%以上。

  展望2023年，隨著光刻膠下游產業(yè)向亞太地區(qū)轉移，我國光刻膠行業(yè)增長迅速，增速快于全球，預計2023年市場規(guī)模將達到293億元。