中國報告大廳網(wǎng)訊，隨著全球半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，晶圓制造技術成為推動行業(yè)進步的關鍵力量。2025中國國際半導體先進技術與應用大會將于4月22日在蘇州舉辦，聚焦半導體技術與應用的創(chuàng)新與突破。光刻機作為晶圓制造的核心設備，其市場需求和技術發(fā)展備受關注。全球晶圓廠設備開支持續(xù)增長，光刻機在半導體設備中的占比達到24%，顯示出其在產(chǎn)業(yè)鏈中的重要地位。

  一、全球晶圓廠設備開支強勁增長

  中國報告大廳發(fā)布的《2025-2030年全球及中國晶圓行業(yè)市場現(xiàn)狀調研及發(fā)展前景分析報告》指出，全球晶圓廠設備開支保持強勁增長態(tài)勢，預計2025年至2027年，全球300mm晶圓廠設備支出將分別達到1232億美元、1362億美元和1408億美元，同比分別增長24%、11%和3%。這一增長趨勢反映了全球半導體產(chǎn)業(yè)對先進制造設備的迫切需求，尤其是光刻機作為核心設備，其市場占比持續(xù)提升。

  二、光刻機市場需求與技術迭代

  光刻機是半導體制造中不可或缺的關鍵設備，其技術迭代與市場需求密切相關。隨著先進邏輯和存儲芯片制程的持續(xù)迭代，EUV光刻機的占比不斷提升。目前，全球前道光刻機市場主要由少數(shù)幾家企業(yè)壟斷，實現(xiàn)光刻機的國產(chǎn)化成為行業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略重點。光刻機的國產(chǎn)化不僅能夠降低對外依賴，還能提升國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的自主創(chuàng)新能力。

  三、國內(nèi)企業(yè)在光刻機領域的突破

  國內(nèi)企業(yè)在光刻機領域取得了一系列重要突破。例如，茂萊光學為光刻機光學系統(tǒng)提供核心模塊，包括用于勻光、中繼照明模塊的光學器件、投影物鏡，以及用于工件臺位移測量系統(tǒng)的棱鏡組件。這些核心模塊是光刻機實現(xiàn)光線均勻性與曝光成像的關鍵。此外，張江高科通過子公司投資了上海微電子公司，持有其10.779%的股權，進一步推動了國內(nèi)光刻機技術的研發(fā)與應用。

  四、光刻機國產(chǎn)化的戰(zhàn)略意義

  光刻機的國產(chǎn)化具有重大戰(zhàn)略意義。它不僅能夠提升國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的自主可控能力，還能在全球半導體市場中占據(jù)更有利的地位。隨著全球半導體銷售額預計到2030年將超過1萬億美元，20252030年復合年增長率達到9%，光刻機作為核心設備，其國產(chǎn)化進程將直接影響國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的競爭力。

  總結

  全球晶圓廠設備開支的強勁增長和光刻機市場需求的持續(xù)提升，凸顯了半導體產(chǎn)業(yè)的技術進步與市場潛力。國內(nèi)企業(yè)在光刻機領域的突破，為實現(xiàn)國產(chǎn)化奠定了堅實基礎。光刻機的國產(chǎn)化不僅是技術創(chuàng)新的體現(xiàn)，更是提升國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)自主可控能力的關鍵。未來，隨著技術的不斷迭代和市場的持續(xù)擴展，光刻機將在全球半導體產(chǎn)業(yè)中發(fā)揮更加重要的作用。

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